Thesis supervisor: Csaba Vass
Location of studies (in Hungarian): SZTE Optikai és Kvantumelektronikai Tanszék Abbreviation of location of studies: SZTE
Description of the research topic:
Napjainkban számos területen alkalmaznak az ultraibolya tartományban is átlátszó, optikailag kiváló minőségű, kémiailag stabil, semleges és ellenálló anyagokat. A hagyományos felhasználási területek mellett (nagy teljesítményű lézer optikái, UV optikák) néhány új területen is alkalmaznak ilyen dielektrikumokat: alapanyaga lehet a mikrofluidikában használt eszközöknek, valamint mikrooptikai elemeknek is: magas roncsolási küszöbbel rendelkező transzmissziós ultraibolya rácsok, nyalábhomogenizátorként működő Fresnel- és mikrolencsesorok, vagy egyéb egyedi diffraktív és refraktív mikrooptikai elemek.
Korábbi kutatásaink bizonyítják, hogy átlátszó anyagok megmunkálására a legtöbb lehetőséggel és előnnyel kecsegtető, rugalmas technika a lézeres hátsó oldali folyadékos maratás, a LIBWE. Segítségével akár 50 nm vonalszélességű struktúrák készíthetők.
A doktoranduszhallgató feladata, hogy különböző optikai és spektroszkópiai alkalmazásokhoz készítsen rácsokat átlátszó anyagok, vékonyrétegek felszínébe (pl. transzmissziós rácsok, polarizátorok, ráccsatolt sík hullámvezetők készítése).
Recommended language skills (in Hungarian): angol Number of students who can be accepted: 1
Deadline for application: 2012-08-31
2024. IV. 17. ODT ülés Az ODT következő ülésére 2024. június 14-én, pénteken 10.00 órakor kerül sor a Semmelweis Egyetem Szenátusi termében (Bp. Üllői út 26. I. emelet).
Login
